加⼯装置

  • 分類:分析

    高解像度電子線描画装置

    メーカー:クレステック

    型番:
    CABL-9000C Series

    どんなことができるの?
    反応性の気体(エッチングガス)やイオン、ラジカルによって材料をエッチングします。ICチップ上の各種不良解析のためのパッシベ-ション膜の剥離や各種シリコン薄膜のエッチング、フォトレジストのアッシングなどを効率よく、かつ低損傷で行えます。極端紫外光レジストの事前感度・解像度の確認だけでなく、電子線ナノパターニング、医療用流路分析チップ、及びナノインプリントマスターモールドの開発に使用しています。

    名称
    CABL-9000C Series
    描画方式
    ベクスタスキャン方式
    基盤寸法
    4, 6, 8インチ対応
    ビーム径
    2 nmφ 以下
  • 分類:分析

    電子線描画装置

    メーカー:クレステック

    型番:
    CABL-2000

    どんなことができるの?
    反応性の気体(エッチングガス)やイオン、ラジカルによって材料をエッチングします。ICチップ上の各種不良解析のためのパッシベ-ション膜の剥離や各種シリコン薄膜のエッチング、フォトレジストのアッシングなどを効率よく、かつ低損傷で行えます。水溶性レジストの電子線リソグラフィや電子線による材料感度の測定に使用しています。

    名称
    CABL-2000
    描画方式
    ベクタ走査及びラクタ走査
    基盤寸法
    最大 φ 4″
    描画領域
    8 nm x 8 nm
    電子銃
    TFE ZrO/W 電子銃 
    加速電圧
    1-30 kV
    分解能
    10 nm
  • 分類:分析

    電子線照射装置

    メーカー:岩崎電気

    型番:
    EC90/10/50L

    どんなことができるの?
    電子線をサンプルに向かって照射する装置です。電子線の作用による重合反応を利用したサンプルの硬化や、細菌のDNAを破壊することによる滅菌が行えます。医療機器、水溶性レジスト、及び半導体材料の多種多様な素材表面の洗浄・表面改質に使用しています。

    名称
    EC90/10/50L
    加速電圧
    50-90 kV
    ビーム電流
    0.1-90 kV
    有効照射幅
    100 mm
  • 分類:分析

    コンパクトエッチャー

    メーカー:サムコ

    型番:
    FA-1-TK

    どんなことができるの?
    反応性の気体(エッチングガス)やイオン、ラジカルによって材料をエッチングします。ICチップ上の各種不良解析のためのパッシベ-ション膜の剥離や各種シリコン薄膜のエッチング、フォトレジストのアッシングなどを効率よく、かつ低損傷で行えます。ガラス基板などの表面処理もできます。プラズマエッチング速度の測定に使用しています。

    名称
    FA-1-TK
    試料サイズ
    最大 φ 4インチ
    試料台
    オープンロード式
    エッチングガス
    四フッ化メタン、酸素
    ※卓上設置可能
  • 分類:分析

    マスク密着露光システム

    メーカー:リソテックジャパン

    型番:
    LTCET-500

    どんなことができるの?
    密着露光とはマスクとウェーハを密着させて露光する方式で、シンプルであるにもかかわらず真空にて密着の場合は1µm位のパターンまで形成することが出来ます。水溶性レジストや光硬化パターニング材料のフォトリソグラフィに使用しています。

    名称
    LTCET-500
    サイズ
    4インチウエハー
    面内均一性
    ±20%以下
    光源
    200 W Xe水銀ランプユニット EXCURE4000
    露光波長
    254, 365, 436nm バンドパスフィルター使用
    露光ステージ
    ウェハ・マスク吸着方式
  • 分類:分析

    熱・UVハイブリットナノインプリント装置

    メーカー:リソテックジャパン

    型番:
    LTNIP-500T

    どんなことができるの?
    微細構造を持つモールドを材料に押し当て、熱や光で硬化させることで、微細加工を行う装置です。真空チャンバ内に金型と材料をセットした冶具を投入後、設定に従い真空脱気、加圧、紫外線照射、加熱を行います。ガス透過性多孔質金型を用いた真空加圧可能な熱・光インプリント成形加工に使用しています。

    名称
    LTNIP-500T
    モールドサイズ
    25-40 mm
    ウエハサイズ
    4-6 インチSi
    UV照射
    0.5 mW/cm2
  • 分類:分析

    プリンテッドエレクトロニクス用装置

    メーカー:マイクロジェット

    型番:
    Labo Jet-900

    どんなことができるの?
    電子デバイスやバイオ用の各種液材料の吐出が可能な高性能1ノズルヘッドを搭載しており、高精度な点・線・面のパターン描画はもちろんスポッティングや分注もできます。よって電子デバイスの試作や液材開発から各種バイオチップの試作まで幅広く行えます。細胞や生体適合性素材を用いたマスクレスマイクロ加工をしています。

    名称
    Labo Jet-900
    搭載ヘッド
    GlassJetヘッド (IJHE30)
    吐出液滴量
    5-2000 pL/滴
    突出液
    試薬、ナノ粒子液、タンパク、 水系溶剤系インクなど
    パターンニング領域
    W68 × D80
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